联盛电子

语言:简体中文 | English

全国免费服务专线:0635-2961988

.

.

因为专业,所以优秀 半导体高端湿制程设备工艺方案供应商

因为专业,所以优秀 半导体高端湿制程设备工艺方案供应商

同一个目标携手共进,同一个梦想合作共赢!     加强我们合作,共享发展新机遇!

同一个目标携手共进,同一个梦想合作共赢! 加强我们合作,共享发展新机遇!

专注、专业、专心为您服务         集成IC,MOS功率器件,MEMS, SOI, GaAs, GPP,SIC,CaN,半导体陶瓷基片,半导体玻璃基片的湿制程设备系列

专注、专业、专心为您服务 集成IC,MOS功率器件,MEMS, SOI, GaAs, GPP,SIC,CaN,半导体陶瓷基片,半导体玻璃基片的湿制程设备系列

PREV
NEXT
/
/
全自动腐蚀机

产品中心

PRODUCTS CENTER

浏览量:
1000

全自动腐蚀机

零售价
0.0
市场价
0.0
浏览量:
1000
产品编号
所属分类
产品中心
数量
-
+
库存:
0
1
产品描述

1、 晶圆槽式浸泡式腐蚀清洗,特制转笼晶圆自动旋转和自转。
2、 工艺结果具备高度的均匀一致性,确保腐蚀效果。
3、 工艺过程中完全自动化控制,自主研发控制系统,友好的人机交互界面。
4、 氮气鼓泡功能,运行中氮气管路可在酸槽内平行均匀移动,鼓泡速率可调节。
5、 化学药液多级精细过滤,循环利用并自动补液功能。
6、 具有MES系统的信息交互通讯能力。
7、 化学药液具备InLine加热冷却恒温功能。
8、 配置完善的晶圆倒片专用装置。
9、 提供标准的制程解决方案。
10、清洗机通过硬件、软件配置来较大限度的保护硅片,在异常状况下设备出现Down机,立刻调动机械手将硅片从化学药液槽中取出,放至QDR水槽中冲洗,能够避免化学药液对硅片的过度腐蚀。在极端条件下,机械手出现Down机,设备立刻将化学药液槽中的化学药液排掉,然后注入UPW,从而也能减小化学药液对硅片的过度腐蚀。
11、加工能力: 晶片直径4英寸至12英寸,每次数量75片/6英寸,50片/8英寸/12英寸
腐蚀精度: 平整度增量δTTV≤1.5μm。
使用领域: 晶圆减薄,表面腐蚀。

扫二维码用手机看
未找到相应参数组,请于后台属性模板中添加

版权信息

发布时间:2019-06-26 00:00:00

© 2019  山东联盛电子设备有限公司    鲁ICP备19035166号

电话:+86-635-2961988   ICP:鲁ICP备19035166号 网站建设:中企动力 济南